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SOFICS释放用于TSMC N5流程的模拟I / O和ESD钳位

2020年8月24日,硅

比利时,2020年8月24日 - Sofics Bvba(www.sofics.com.),一家领先的半导体集成电路IP供应商宣布,其TakeCharge®静电放电(ESD)产品组合采用了台积电先进的5nm制程技术。超过100家无晶圆厂公司使用Sofics解决方案来实现更高的性能、更高的稳健性,同时减少SoC设计的设计时间和成本。

FinFET技术中的接口ESD保护是具有挑战性的。FinFET电路对ESD应力非常敏感,但传统的ESD概念不再有效。“由于我们在知识产权联盟中与台积电的密切合作,SOFICE能够将其专有的ESD投资组合转移到最先进的5nm流程技术,”Sofics首席执行官Koen Verhaege说。

“SoC设计人员需要定制模拟I / O或ESD单元,用于某些应用,包括高速或无线接口,低功耗或高压容差焊盘。然而,在设计复杂性和挑战方面,设计定制ESD细胞在这种先进技术方面非常麻烦。“

“我们很自豪地报告领先的半导体公司最近集成了SOFICS ESD保护的高速接口,另一个用于1.8V故障安全I / O.”

SOFICS ESD解决方案的关键方面包括超低泄漏,小面积和低寄生电容。IP可用于保护最敏感的核心界面免受静电放电。

SOFICS可以随时获得TAGECHARGE细胞以及强大的I / O解决方案。您可以在网站上找到有关FinFET ESD和SOFICS的更多信息:https://www.sofics.com/index.php?view=sofics-finfet.

关于SOFICES.- Sofics是“ic解决方案”的缩写。Sofics是一家IP供应商,在ESD、EOS和EMC的片上稳健性方面拥有丰富的专利组合,在50多个流程中得到验证。我们的100家授权商已经将Sofics的知识产权集成到他们的IC产品中。由于与一些领先的半导体公司的密切合作,超过4500个量产ic受到Sofics ESD解决方案的保护。

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